發(fā)酵液均質(zhì)高剪切分散機(jī)

發(fā)酵液多糖發(fā)酵結(jié)束后的發(fā)酵液組成情況非常復(fù)雜，處理措施與化學(xué)合成法明顯不同。通常情況下，發(fā)酵液中目標(biāo)物濃度很低，而雜質(zhì)含量卻很高，成份遠(yuǎn)較化學(xué)反應(yīng)母液情況復(fù)雜，大量菌體細(xì)胞、培養(yǎng)基、各種蛋白質(zhì)膠狀物、色素、金屬離子和其它代謝物等混雜其中，使得發(fā)酵液的預(yù)處理對于目標(biāo)物的獲取非常必要。

發(fā)酵液預(yù)處理的目的是使發(fā)酵液中的蛋白質(zhì)和某些雜質(zhì)沉淀，以增加濾速，過濾的目的是使菌絲體與發(fā)酵液分離，以便從發(fā)酵液或菌絲體中提取目標(biāo)物。預(yù)處理階段主要去除兩大類雜質(zhì):可溶性黏膠狀物質(zhì)（核酸、雜蛋白、不溶性多糖等）和無機(jī)鹽（不僅影響成品熾灼殘渣，還會影響離子交換法提取目標(biāo)物的收率）。

確定預(yù)處理方法前，首先要明確目標(biāo)物存在于胞內(nèi)（菌體）還是胞外（發(fā)酵液），以確定棄去和收集的對象；還要結(jié)合目標(biāo)物的穩(wěn)定性等特點(diǎn)，選擇預(yù)處理的pH、溫度和化學(xué)試劑等。對于菌絲體及雜蛋白的處理一般可采用等電點(diǎn)沉淀、變性沉淀、沉淀劑沉淀、加入絮凝劑、加入凝聚劑、吸附以及酶解法去除不溶性多糖等措施，對提取效果和成品質(zhì)量影響較大的無機(jī)雜質(zhì)主要是Ca2+、Mg2+、Fe3＋等高價金屬離子，可采用離子交換法、沉淀法等措施去除。加入的預(yù)處理試劑除要考慮到處理效果外，還要考慮低毒性、利于環(huán)保以及易于從終產(chǎn)品中除去等因素，申報時應(yīng)說明所采取的措施及加入的試劑，必要時在成品質(zhì)量研究中檢測其殘留量。

發(fā)酵液多糖膠體磨 由于菌絲在發(fā)酵過程中,有的將多糖分泌到胞外,形成胞外多糖,有的只留在胞內(nèi),形成胞內(nèi)多糖,對于胞外多糖,可以直接將發(fā)酵液經(jīng)濃縮沉淀而得到. 而對于胞內(nèi)多糖,在提取前應(yīng)對菌絲體進(jìn)行一定程度的預(yù)處理,利用細(xì)胞破壁技術(shù)破壞其細(xì)胞壁,使胞內(nèi)多糖較易從細(xì)胞內(nèi)釋放出來.

常用細(xì)胞破壁技術(shù)分為機(jī)械法和非機(jī)械法兩類. 機(jī)械法按破碎方法分為靠固體剪切作用進(jìn)行破碎的珠磨法、壓榨法以及靠液體剪切作用進(jìn)行破碎的高壓勻漿法和超聲破碎法. 非機(jī)械法按破碎方法分為靠溶胞作用進(jìn)行破碎的酶溶法、化學(xué)法和物理法以及利用干燥處理技術(shù)進(jìn)行破碎. 目前,高速珠磨勻漿法和高壓勻漿法不僅在實(shí)驗(yàn)室被廣泛采用,而且已在工業(yè)生產(chǎn)中應(yīng)用。

發(fā)酵液多糖高速膠體磨介紹：

1、膠體磨具有設(shè)計緊湊、實(shí)用方便，外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡單、經(jīng)久耐用、適應(yīng)范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點(diǎn)、是處理精細(xì)物料理想的加工設(shè)備。

2、高剪切膠體磨是對流體物料進(jìn)行精細(xì)加工的機(jī)械。它綜合了均質(zhì)機(jī)、球磨機(jī)、三輥機(jī)、剪切機(jī)、攪拌機(jī)等機(jī)械的多種性能，具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過加工后，粒度達(dá)2～50微米，均勻度達(dá)90%以上，是超微粒加工的理想設(shè)備。

3、該機(jī)適用于制藥、食品、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)的粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國外同類產(chǎn)品的先進(jìn)水平。

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1、膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

2、膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

3、物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

4、循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

發(fā)酵液均質(zhì)高剪切分散機(jī)
膠體磨XM2000系列特別適合于膠體溶液，超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，XM在摩擦狀態(tài)下工作，因此也被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)載和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口問題，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散效果。XM2000整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

以下為型號表供參考：